h2-tpd表征 英文时氢气在多少度吸附较好

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2016-04-30 03:28 标签： 氢气化学吸附
吸附仪_化学吸附分析仪|真密度分析仪|加氢微反装置|变压吸附分析仪|孔径比表面积分析仪|比表面积分析仪_TPD技术在催化剂研究中的应用
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TPD技术在催化剂研究中的应用
(1)&& TPDTPD(TPD)
NH3-TPDZSM-5ZSM-5()ZSM-5NH3-YPD
3503502502250350k1/kdTPDO2-TPDH2-TPDNO-TPDTPDO2-TPDH2-TPD
O2-TPD -Sm2O3O2-TPDSm2O3Sm2O3ODESm2O3Sm2O3O2
NO-O2-TPDAg-ZSM-5
CH4NOxTPDNOO2Ag-ZSM-5CH4N2HeNOO2Ag-ZSM-5TPDNO60NOHe150NO350475550NONOO2350475DRIFTNOO2Ag-Al2O3NO3(s)NO-O2Ag-ZSM-5NO3(3)NO3sNOO2NO33(345475)NO3(s)Ag
H2&-TPDAmenomiyaCvetanovicPtTPDTm170K20K350K570K
CO2-TPD CO2-TPDNH3-TPD TPD
H2O2CO-TPD,Pt()
&&&&&& KatzerPt-SiO2COH2TPD
PtCOCO(H2)Pt-Al2O3Pt-H2PtTPDAl2O3
&&&&&& (HOCO)
ZagliN2&-&&&&&----Ni-SiO&2Ni-Al2O3TPDNi-SiO2CO750KNi-Al2O3750KCONi-Al2O3CO650KNi-SiO2Al2O3&
MoS2&COH2C1~C5cTPDDianioTPDTPD4H24H2SCOH2CO
TPDTPDSnPtPtPtCOSnPtPt-SnCOTPD
(TPD)TiO2TiO2Al2O3SiO2ZrO2TiO2
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传真:010- E-mail:求问TPD测试过程?Raney Ni催化剂的表征?
RosE情义噐嶊°
单说TPD别人不知道你做什么吸脱附,如果是H2-TPD的话,一般惰性气氛中200度吹扫后降温,通H2吸附饱和然后程序升温脱附就行了
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求助：氢气在铜、银等金属表面的解离温度
各位路过的帮帮忙
氢气在铜、银等金属表面的解离温度 就是H-H键断裂温度
如果有表格就更好了 谢谢
或者综述类的文献也行啊
80K还是80度呢？谢谢啊
H-H的键能，约435kJ/mol 那没有催化剂时多少度可以解离
当然是80K了，没有催化剂就是靠纯热解离，大约在1800 K左右。
请问“H2不能再铜，银表面吸附”有相关文献吗？急求。解决自己试验中遇到的问题——用纯铜做了H2-TPD，没有出峰，但说其不吸附铜，又没有更多的数据和文献支持。
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负载贵金属沸石分子筛的H2-TPD的研究.pdf89页
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太原理工大学硕士研究生学位论文 负载贵金属沸石分子筛的H2．TPD研究 III UlII IIIIIIIIIIIIIIIIIIlUl I IIIII Y座机电话号码 摘要 负载贵金属的沸石分子筛是将金属或是金属氧化物封装在沸石分子
筛的孔穴里，可以负载和保护活性中心，利用沸石分子筛的择型催化性能，
选择反应物、反应产物或是过度状态，应用于特定反应中，起到择型催化
作用。被约束在微孔晶体里小而又规整的孔道和晶穴环境里的金属簇分散
性更好，而且能更有效的防止金属烧结和毒化。本课题对封装Pt的LTA
型沸石分子筛进行了I-12．TPD研究，探讨了其离子交换，金属的负载量， 自还原等性质现象，并用其它表征手段进行了佐证；又通过Pt／NaA沸石
分子筛转晶法合成了封装Pt的SOD沸石分子筛，用I-12．TPD进行了表征；
最后利用H2．TPD研究了氢溢流的影响因素及在苯加氢反应中的作用，得
到如下结论： 1 I-12．TPD可以用于经不同离子交换的沸石分子筛的研究，经过不 同离子交换的LTA沸石，具有相同的结构，但孔口的不同，会引起脱附 阻力的不同，脱附峰的位置和形状就会不同；H2．TPD可以作为封装贵金
属的沸石分子筛的一种表征手段，Pt／NaA沸石分子筛在高温处的脱附峰
位置和单纯NaA沸石分子筛的稍微靠前，峰强度变小，表明Pt确实分散
在了NaA沸石分子筛的孔道里，孔道被堵塞，脱附阻力减小；I-12．TPD可 以用于贵金属不同负载量沸石分子筛的研究，不同载Pt量的NaA沸石分
子筛的低温脱附峰随着负载Pt的量的增加，先增大后减小，说明Pt的加 T 太原理工大学硕士研究生学位论文
入量在一定范围内，活性中心Pt在孔笼内分散良好，但随Pt量的增加，
Pt在孔内开始堆积，堵塞孔道，就会起到相反的作用，
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求助：H2 N2 NH3-TPD时，如何顶物理吸附的温度
求助：我最近实验需要做H2-TPD 、N2-TPD、 NH3-TPD，可是我不是太清楚在什么温度下来吸附H2 N2 NH3呢，以及在什么温度下用He吹扫把催化剂表面吸附的H2 N2 NH3吹走呢，
目前我在做N2-TPD时，是在100度下吸附N2，然后在100度下吹扫半个小时，在开始程序升温脱附N2，记录N2的脱附峰，可是有的文献报道：在室温下吸附N2，然后在室温下用He吹扫，我也不知道针对这三种TPD各自对应的儿媳妇温度应该是多少？，请大家帮忙，谢谢啦
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