如何监控或者测量真空镀膜靶材时靶材厚度的变化？

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2016-11-17 14:59 标签： 真空镀膜靶材
新靶材镀膜的质量比旧靶材的好吗?_百度知道
新靶材镀膜的质量比旧靶材的好吗?
我有更好的答案
如果靶材纯度一样，旧靶表面干净，镀膜质量应该是不会有区别的
采纳率：33%
新靶材开始一般都不会很好。
为您推荐：
其他类似问题
您可能关注的内容
靶材的相关知识
换一换
回答问题，赢新手礼包
个人、企业类
违法有害信息,请在下方选择后提交
色情、暴力
我们会通过消息、邮箱等方式尽快将举报结果通知您。当前位置：
应用较多的两种真空镀膜方法
来源：林上科技 & 发布时间： 10:47:33& 浏览：
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，主要有蒸发镀膜和磁控溅射镀膜两种。真空镀膜厂家一般都用真空镀膜在线测试仪监测镀膜厚度及生产品质。
　　真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，主要有蒸发镀膜和磁控溅射镀膜两种。真空镀膜厂家一般都用监测镀膜厚度及生产品质。　　一、对于蒸发镀膜　　一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。　　厚度均匀性主要取决于：　　1、基片材料与靶材的晶格匹配程度　　2、基片表面温度　　3、蒸发功率，速率　　4、真空度　　5、镀膜时间，厚度大小。　　组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。　　晶向均匀性：　　1．晶格匹配度　　2．基片温度　　3．蒸发速率　　二.溅射类镀膜　　可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。　　溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。　　溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般&
相关文章链接真空镀膜 2_图文_百度文库
您的浏览器Javascript被禁用，需开启后体验完整功能，
享专业文档下载特权
&赠共享文档下载特权
&10W篇文档免费专享
&每天抽奖多种福利
两大类热门资源免费畅读
续费一年阅读会员，立省24元！
真空镀膜 2
阅读已结束，下载本文需要
想免费下载本文？
定制HR最喜欢的简历
下载文档到电脑，同时保存到云知识，更方便管理
加入VIP
还剩4页未读，
定制HR最喜欢的简历
你可能喜欢当前位置：
影响真空蒸发镀膜厚度的因素
来源：林上科技 & 发布时间： 15:04:50& 浏览：
影响真空蒸发镀膜厚度的因素有很多,镀层厚度的均匀性就决定了镀膜的品质,镀膜生产过程中我们可以使用光密度在线测试仪对镀膜厚度的一致性进行测试。
　　一般来说蒸发真空镀膜就是将靶材在真空的环境下加以高温，使其以原子团或者离子的形式被蒸发出来，然后在将基片防于真空仓中让这些原子团或离子沉淀在基片之上，在沉淀的过程中我们还能通过我们的需要来改变靶材的沉淀情况。& & & &能在真空镀膜生产的过程中进行镀膜厚均匀性的监测；选择真空镀膜就是想要在基片上均匀的镀上膜，靶材厚度的均匀性就决定了镀膜的品质，镀膜生产过程中我们可以使用光密度在线测试仪来进行测试。& & & &那么具体影响基片上的靶材厚度是否均匀的因素有哪些呢？& & & &首先对基片上的膜厚度就算是同一种物质都会出现分子结构不同的情况，而真空镀膜简单说来就是在一种物质覆盖另一种物质，如果这两种物质的分子结合能够很好的镶嵌在一起，那么对真空镀膜情况肯定是有很大好处的，反之亦然。& & & &然后基片表面的温度也是会影响真空镀膜厚度是否均匀的；基片的温度越高则镀膜效果越好，当然在真空镀膜的时候也会纯在一些特殊的材料，它们的镀膜情况则是基片温度越低镀膜效果会更好。& & & &另外，真空镀膜机的蒸发功率和速率也是影响真空镀膜情况一个较大的因素，这个因素想要改变的话只能在真空镀膜机上改善，因此想要通过加大真空镀膜设备的蒸发功率来改变镀膜情况是比较困难的。& & & &最后真空镀膜的时间和所需镀膜的厚度也是会影响到镀膜是的均匀行的一个因素。所以最有效的办法还是通过目前专业的光密度在线测试仪来连续测试镀膜厚度的均匀性是否达到标准。
相关文章链接

我要回帖

更多关于 真空镀膜靶材 的文章

 

随机推荐