直流溅射，直流磁控溅射，射频磁控溅射法有什么区别

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2018-05-04 22:21 标签： 直流磁控溅射
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直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下还有就是为什么直流磁控溅射只能用金属靶材?粘贴无效哈
1 直流和射频是对加在靶上的电源所说的.本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的.详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里2 这个说法不对.直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材）,并不局限于金属.譬如,对于铝靶,它的表面极易形成不导电的氧化膜层,造成靶表面电荷积累（靶中毒）,严重时直流溅射无法进行.这时候,就需要射频电源,简单的说,用射频电源的时候,有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷,不会发生靶中毒.去找本书,《薄膜科学与技术》,里面解释的还行.或者半导体设备的书里面也会有涉及
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与《直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下》相关的作业问题
主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.现在的直流溅射（也叫二级溅射）较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.直流溅射发展后期,人们在其表面加上一定磁场,磁场束缚住自由电子后,
直流磁控溅射只能使用金属靶材,射频（13.56MHz）溅射由于高频的场效应可以使靶材的应用扩展到非金属材料,比如陶瓷材料等等.
主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.磁控溅射是在二极直流溅射的基础上,在靶表面附近增加一个磁场.电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了电离产额,从而放电区的电离度提高,即离
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射频溅射镀膜与直流溅射镀膜相比较有何特点
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直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面，射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的。详细解释只能去看书，没人会找本书来给你慢慢敲在这里。直流磁控溅射只能用导电的靶材（靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材），并不局限于金属。譬如，对于铝靶，它的表面极易形成不导电的氧化膜层，造成靶表面电荷积累（靶中毒），严重时直流溅射无法进行。这时候，就需要射频电源，简单的说，用射频电源的时候，有一小部分时间是在冲抵靶上积累的电荷，不会发生靶中毒。
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阳极氧化与磁控溅射有什么区别
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磁控溅射中如果阳极被氧化（或被镀上不导电的氧化膜），就会造成阳极消失，也就无法电离工艺气体，最终导致无法溅射。这也是为什么Si靶溅射要用中频电源，而不是直流电源的原因。
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为什么直流溅射不稳定？
今天实验，装好靶材后发现用直流的时候出现了不稳定忽闪忽闪的辉光，而且可以明显的看出在金属靶材表面有一些散步的亮点现象而用射频的时候就不同了，在非金属靶BN上很稳定的弧光望内行告知谢谢！
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burn-in俗称烧靶,目的是使靶材达到工作温度,并消除最表面的缺限,如氧化物等杂质.楼主看到的亮光可能是因为靶材内有细微的空气泡,一溅射就燃烧发光了,要是出现较大的空洞,里面的空气会在圆片上形成很大的打火点.
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