影响屏蔽材料的屏蔽效能的几个因素
影响材料的屏蔽效能的因素:
1）材料的导电性和导磁性越好，屏蔽效能越高，但实际的金属材料不可能兼顾这两个方面，例如铜的导电性很好，但是导磁性很差；铁的导磁性很好，但是导电性
较差。应该使用什么材料，根据具体屏蔽主要依赖反射损耗、还是吸收损耗来决定是侧重导电性还是导磁性；
2）频率较低的时候，吸收损耗很小，反射损耗是屏蔽效能的主要机理，要尽量提高反射损耗；
3）反射损耗与辐射源的特性有关，对于电场辐射源，反射损耗很大；对于磁场辐射源，反射损耗很小。因此，对于磁场辐射源的屏蔽主要依靠材料的吸收损耗，应
该选用磁导率较高的材料做屏蔽材料。
4）反射损耗与屏蔽体到辐射源的距离有关，对于电场辐射源，距离越近，则反射损耗越大；对于磁场辐射源，距离越近，则反射损耗越小；正确判断辐射源的性质
，决定它应该靠近屏蔽体，还是原理屏蔽体，是结构设计的一个重要内容。
5）频率较高时，吸收损耗是主要的屏蔽机理，这时与辐射源是电场辐射源还是磁场辐射源关系不大。&
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以上网友发言只代表其个人观点，不代表新浪网的观点或立场。什么情况会影响屏蔽材料的效果？
随着不同场所对于屏蔽的要求有所不同，为了满足人们的不同屏蔽需求，屏蔽技术水平也逐渐在提高。采用屏蔽机房，由于屏蔽材料会有不同，因而，人们对于屏蔽机房的屏蔽效果是否与屏蔽材料有关，也提出了疑问。那么什么情况会影响屏蔽材料的效果呢?下面由深圳屏蔽房厂家的小编为大家介绍：
1)材料的导电性和导磁性越好，屏蔽效能越高，但实际的金属材料不可能兼顾这两个方面，例如铜的导电性很好，但是导磁性很差;铁的导磁性很好，但是导电性较差。应该使用什么材料，根据具体屏蔽主要依赖反射损耗、还是吸收损耗来决定是侧重导电性还是导磁性;
2)电场波是最容易屏蔽的，平面波其次，磁场波是最难屏蔽的。尤其是(1KHz以下)低频磁场，很难屏蔽。对于低频磁场，要采用高导磁性材料屏蔽，几种情况影响屏蔽材料的效果甚至采用高导电性材料和高导磁性材料复合起来的材料。
3)频率较低的时候，吸收损耗很小，反射损耗是屏蔽效能的主要机理，要尽量提高反射损耗;
4)反射损耗与屏蔽体到辐射源的距离有关，对于电场辐射源，距离越近，则反射损耗越大;对于磁场辐射源，距离越近，则反射损耗越小;正确判断辐射源的性质，决定它应该靠近屏蔽体，还是原理屏蔽体，是结构设计的一个重要内容。
5)频率较高时，吸收损耗是主要的屏蔽机理，这时与辐射源是电场辐射源还是磁场辐射源关系不大。
6)反射损耗与辐射源的特性有关，对于电场辐射源，反射损耗很大;对于磁场辐射源，反射损耗很小。因此，对于磁场辐射源的屏蔽主要依靠材料的吸收损耗，应该选用磁导率较高的材料做屏蔽材料。
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影响电磁屏蔽机房效能的主要因素有哪些？
　　电磁屏蔽机房的施工使用为需要一些信息保障提供了安全保障，但是又一些因素会影响电磁屏蔽机房的效果，也就是说屏蔽的效果，主要的就包括一下的几种。　　影响电磁屏蔽机房效能主要有以下因素：　　1、屏蔽室所用材料：屏蔽材料的屏蔽效果不好，那么施工处的电磁屏蔽机房的效能当然也是会受影响。　　2、屏蔽材料的接缝处理：电磁屏蔽机房中，屏蔽机房的接缝如果没有做好相应的处理，那么在接缝中自然会有安全隐患，所以也会影响电磁屏蔽机房的效能。　　3、屏蔽门：屏蔽门是电磁屏蔽机房的重要组成部分之一，如果屏蔽门的屏蔽性不好，当然也会影响。　　4、 通风窗：电磁屏蔽机房中要有通风窗，通风窗的屏蔽效能会影响电磁屏蔽机房的整体效能。　　5、 屏蔽窗。　　6 、电源线的滤波处理。　　7 、信号线的屏蔽处理　　上述的这些都是影响电磁屏蔽机房效能的主要因素，总的来说，电磁屏蔽机房要想效能好，首先其各个组成部分的屏蔽效能就要好。　　北京华夏蓝图科技网站,是一家专注于服务器机柜生产及销售的公司,本公司属于厂家直销类,主要经营科创品牌产品,如:服务器机柜,智能恒温机柜,,kvm切换器,机架式kvm切换器IP远程,pdu电源防雷插座,室外防水机柜,查询机等产品。哪些因素会影响屏蔽材料的效果？
如今随着电子行业的兴起，很多企业都采用屏蔽房来屏蔽一些不必要的干扰，为了满足人们的不同屏蔽需求，屏蔽技术水平也逐渐在提高。由于每个企业采用不同的屏蔽材料，因此很多用户对于屏蔽房的屏蔽效果是否与屏蔽材料有关产生了很多疑问，那么哪些因素会影响屏蔽材料的效果呢?下面由东莞众威厂家的工作人员为大家介绍：
1、电场波是最容易屏蔽的，平面波其次，磁场波是最难屏蔽的。尤其是(1KHz以下)低频磁场，很难屏蔽。对于低频磁场，要采用高导磁性材料屏蔽，几种情况影响屏蔽材料的效果甚至采用高导电性材料和高导磁性材料复合起来的材料。
2、材料的导电性和导磁性越好，屏蔽效能越高，但实际的金属材料不可能兼顾这两个方面，例如铜的导电性很好，但是导磁性很差;铁的导磁性很好，但是导电性较差。应该使用什么材料，根据具体屏蔽主要依赖反射损耗、还是吸收损耗来决定是侧重导电性还是导磁性;
3、频率较低的时候，吸收损耗很小，反射损耗是屏蔽效能的主要机理，要尽量提高反射损耗;
4、频率较高时，吸收损耗是主要的屏蔽机理，这时与辐射源是电场辐射源还是磁场辐射源关系不大。
5、反射损耗与辐射源的特性有关，对于电场辐射源，反射损耗很大;对于磁场辐射源，反射损耗很小。因此，对于磁场辐射源的屏蔽主要依靠材料的吸收损耗，应该选用磁导率较高的材料做屏蔽材料。
6、反射损耗与屏蔽体到辐射源的距离有关，对于电场辐射源，距离越近，则反射损耗越大;对于磁场辐射源，距离越近，则反射损耗越小;正确判断辐射源的性质，决定它应该靠近屏蔽体，还是原理屏蔽体，是结构设计的一个重要内容。
以上哪些因素会影响屏蔽材料的效果就介绍到这里了，屏蔽材料在同距离、不同频率、不同场源的屏蔽效果也是不同的，而不同类型的金属材料也会带来不同的屏蔽效果。大家可以结合上次我们提到的屏蔽房建设的常见屏蔽材料有哪些一起来了解。
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磁屏蔽是指把不同的两种介质放到磁场中，在它们的交界面上磁场要发生突变，这时B的大小和方向都要发生变化，也就是说，引起了磁感线的折射。当磁感线从空气进入铁时，磁感线对法线的偏离很大，因此有强烈地汇聚作用，从而形成了磁屏蔽。
磁屏蔽描述
例如右图，是磁屏蔽示意图。图中A为一很大的（如坡莫合金或铁铝合金）做成的罩，放在外磁场中。由于罩壳磁导率μ比空气μ大得多，所以绝大部分磁场线从罩壳的壁内通过，而罩壳内的空腔中，磁感线是很少的。这就达到了磁屏蔽的目的。为了　由于材料的成本占屏蔽体价格的一半，所以使用较薄的尺寸能满足所要求的屏蔽特性和结构性能是最好了。厚度为0.002到0.010英寸的箔材是最低成本的选择。这些箔材能以同等的化学组分和性能特性获得，并可作为标准的以镍为基础的和ULCS材料。
设计低成本屏蔽体的最重要的一步，就是对这些典型屏蔽材料特性及其对屏蔽性能影响的了解。一旦合适的材料被选中，其重点要集中于基本的设计考虑，以使其不但性能最佳，而且对成本的影响最小。
磁屏蔽设计考虑
大部分屏蔽体用的公式和模型的开发是基于圆形或无限长的圆柱体几何形状的。在实际应用中，所给定屏蔽体的实践形状由器件结构和屏蔽体自身的可利用空间所决定。在设计一屏蔽体时，要了解的重要的结构是，要使磁力线旋转90°是困难的。但是，圆形屏蔽体，比如要改变圆柱体或是具有圆形角的盒体的磁力线的方向要比具有方形角的屏蔽体容易一些。类似地，对于包容已进入屏蔽材料的磁力线并改变其方向，圆角要比尖角好一些。保持可提供低路径的屏蔽体形状简单或磁场运动的“最低磁阻路径”是很重要的。
屏蔽体的尺寸在屏蔽效率和成本方面的重要性极大。屏蔽体的有效半径越小，其整体性能就越好。但是，设计屏蔽体的目的是使其包络试图屏蔽的组件和空间，并应该靠得很近。由于材料占屏蔽体设计的大部分成本，因此较小屏蔽体就可以在较低成本下获得较优的性能。
每当有可能，屏蔽体应与所有壁靠近，以避免场泄漏。这种结构（即使是矩形）也是最接近于圆形的，它可以建立一个半闭合的。另外，全部箱体可在所有轴上获得屏蔽特性，这样就可以保证最好的屏蔽性能。当特殊的性能和进出口需要时，可移动的盖板、罩和门均可组合到屏蔽体设计中去。
在利用盖板、罩和门时或使用两块或多块板构建屏蔽体时，在多块板间保持磁连续性和电接触是很重要的。可通过机械式（利用摩擦组件）或焊接保持磁连续性。在拐角或过渡连接，使用焊接可获得最佳性能。维持表面间的连续性就可以保证磁力线连续沿其低磁阻路径前进，这样可以提高屏蔽效能。在交流场，保持磁连续性就允许较高的屏蔽，在直流场，对于适当的磁力线分路，连续性也是重要的。
如果你不能靠近屏蔽体的一端或两端，要特别注意开端的长一直径比。屏蔽体的这种长—直径比至少应为4：1，以避免“端接效应”和磁力线穿透屏蔽体范围。经验法则是，屏蔽体需要延伸到器件的外部，这样可以用与开孔半径相等部分进行保护。由于增加了屏蔽体的长度同时保持直径不变，就可以用无限长模型进行近似。当圆柱型或矩形屏蔽体需要大的时，垂直于屏蔽体壁的的管可用于由于开孔而引起屏蔽体的磁场强度的减少。管的长度应正比于所屏蔽的开孔的直径。
在设计过程早期就应考虑这些问题，可使这些主要设计参数对屏蔽体的成本影响较小。但是，这些因素要比材料本身对屏蔽体性能的影响要大。这样，在设计屏蔽体时，最先保证这些基本参数通常是需要的。
磁屏蔽生产技术
一种好的屏蔽体设计要涉及到加工过程，其可提供所需要的结构和特性。在过去，大部分磁屏蔽体是用标准的精密片状金属加工技术通过剪切、穿孔、成型和焊接加工出来的。而自2012年开始，利用先进的激光切割系统，个别部件的剪切和计算机化的数字控制冲孔都由一步所代替。主要的屏蔽元件的一步加工技术可使加工时间更快和降低加工成本，而无须高成本的加工方法。特别是对于型材和特殊设备（比如专用切割和系列化），这种过程可为屏蔽设计者提供更大的灵活性。
利用母材并使用缝隙和连接点的氩弧焊或叠层缝隙的点焊，就可以组装多个屏蔽元件。氩弧焊可使组装的屏蔽体得到最佳化的磁连续性，它可用于使用高屏蔽性能方面。对于大部分应用，与氩弧焊相比，和叠层连接的点焊可获得更高级的磁连续性。
为使典型的屏蔽合金（如Mumetal）达到最佳性能，还要进行特殊的被称为去氢退火的热处理循环。一旦所有加工过程完成，就可以进行退火过程。但在退火以后，对屏蔽体进行冲击和振动试验，将降低材料的性能。严格遵守所规定的退火周期，不但能保证获得最佳磁屏蔽性能，而且还可以将未退火材料的平均提高40倍。
磁屏蔽结论
对所规定的屏蔽任务的了解有助于最好的材料、结构和加工艺的选择。这种评价可在最佳成本下保持最好的屏蔽性能。
磁屏蔽应用
磁屏蔽静磁
静磁场是稳恒电流或永久磁体产生的磁场。静磁屏蔽是利用高μ的做成屏蔽罩以屏蔽外磁场。它与作用类似而又有不同。
静磁屏蔽的原理可以用磁路的概念来说明。如将铁磁材料做成截面如上图的回路，则在外磁场中，绝大部份磁场集中在铁磁回路中。这可以把铁磁材料与空腔中的空气作为并联磁路来分析。因为铁磁材料的磁导率比空气的磁导率要大几千倍，所以空腔的比铁磁材料的磁阻大得多，外磁场的磁感应线的绝大部份将沿着铁磁材料壁内通过，而进入空腔的极少。这样，被铁磁材料屏蔽的空腔就基本上没有外磁场，从而达到静磁屏蔽的目的。材料的磁导率愈高，筒壁愈厚，屏蔽效果就愈显著。因常用高的铁磁材料如、硅钢、坡莫合金做屏蔽层，故静磁屏蔽又叫铁磁屏蔽。
静磁屏蔽在电子器件中有着广泛的应用。例如变压器或其他线圈产生的漏磁通会对电子的运动产生作用，影响示波管或显像管中电子束的聚焦。为了提高仪器或产品的质量，必须将产生漏磁通的部件实行静磁屏蔽。在手表中，在机芯外罩以软铁薄壳就可以起防磁作用。
前面指出，静电屏蔽的效果是非常好的。这是因为金属导体的要比空气的电导率大十几个数量级，而铁磁物质与空气的磁导率的差别只有几个数量级，通常约大几千倍。所以静磁屏蔽总有些漏磁。为了达到更好的屏蔽效果，可采用多层屏蔽，把漏进空腔里的残余一次次地屏蔽掉。所以效果良好的磁屏蔽一般都比较笨重。但是，如果要制造绝对的“静磁”，则可以利用的。即将一块超导体放在外磁场中，其体内的B永远为零。超导体是完全抗磁体，具有最理想的静磁屏蔽效果，但到2013年还不能普遍应用。
磁屏蔽电磁
电磁屏蔽是抑制干扰，增强设备的可靠性及提高产品质量的有效手段。合理地使用电磁屏蔽，可以抑制外来的干扰，也可以避免作为干扰源去影响其他设备。如在收音机中，用空芯铝壳罩在线圈外面，使它不受外界时变场的干扰从而避免杂音。音频馈线用屏蔽线也是这个道理。示波管用铁皮包着，也是为了使杂散不影响电子的扫描。在金属屏蔽壳内部的元件或设备所产生的高频电磁波也透不出金属壳而不致影响外部设备。
用什么材料作电磁屏蔽呢？因电磁波在良导体中衰减很快，把由导体表面衰减到表面值的1/e（约36.8%）处的厚度称为趋肤厚度（又称透入深度），用d表示，有
d=5030*sqr(σ/(μ*f))
其中μ和σ分别为屏蔽材料的磁导率和电导率。若电视频率f=100 MHz，对铜导体（σ=5.8×107/ ·m，μ≈μo=4π×10-7H/m）可求出d=0．00667mm。可见良导体的电磁屏蔽效果显著。如果是铁（σ=107/ ·m）则d=0.016mm。如果是铝（σ=3.54×107/ ·m）则d=0.0085mm。
为了得到有效的屏蔽作用，屏蔽层的厚度必须接近于屏蔽物质内部的电磁波波长（λ=2πd）。如在收音机中，若f=500kHz，则在铜中d=0.094mm（λ=0.59mm）。在铝中d=0.12mm（λ=0.75mm ）。所以在收音机中用较薄的铜或铝材料已能得到良好的屏蔽效果。因为电视频率更高，透入深度更小些，所需屏蔽层厚度可更薄些，如果考虑机械强度，要有必要的厚度。在高频时，由于的和涡流损失较大，从而造成谐振电路品质因素Q值的下降，故一般不采用高的磁屏蔽，而采用高的材料做电磁屏蔽。在材料中，因趋肤电流是，故电磁屏蔽又叫屏蔽。
磁屏蔽手表
机械手表里的机芯都是钢制的。如果手表放在磁铁附近，钢制机芯就会磁化。特别是当游丝磁化后，表马上就会停止不走。因此，手表需要外罩一种能防御磁力，使磁场透不过的物质。　有意思的是，能够遮住外磁场的物质，原来就是容易磁化的铁本身。为了证明这一点，你可把一个小指南针放在一个铁环里，可以看到小磁针就不会被环外的磁铁吸引了。所以，如果你有一块用铁或钢做外壳的手表，就可以保护表内的钢制机件不受磁力影响。即使将表放在强磁场附近，它的精确度一点也不会降低。至于用金或银做外壳的金表和银表，虽然很贵重，但是千万不能放到磁铁附近，因为它不能防磁。可见，用铁制包皮就能把外面的磁场遮住，使内部不受外磁场的影响，放在其中的铁制品也就不会被磁化。这种现象在物理学中称为磁屏蔽。
磁屏蔽电感
]余传佩,杨静云. 磁屏蔽技术及其应用[J]. 科技创新与应用,-28.
袁岩兴. 低频磁屏蔽材料的制备与研究[D].北京工业大学,2005.
本词条认证专家为
副教授审核
同济大学数学科学学院
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