smic 18nm mos管mos阈值电压公式是多少

在razavi中文版478页,VTH随L的减小而变小。
但是在EECS240的lecture中,VTH随L的减小而增大。
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现在的MOS,VTH与L的关系不是单调的。
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在razavi中文版478页,VTH随L的减小而变小。
但是在EECS240的lecture中,VTH随L的减小而增大。
helianalog 发表于
& & 先谢谢了,我通过仿真得到的结果是vth随L的减小而增大,用的是smic0.18的工艺。今天看的论文中默认的是Vth随L的减小而变小,然后得到了一系列的结论。也没给参考依据。
现在到底是应该怎么理解这个东西呢?是正比趋势还是反比趋势呢?还是有条件限制的呢?
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影响阈值电压变化的因素很多& &不能单看栅长& &要全面考虑。。。
没有负担的生活着……
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可以看阈电压的完整表达式就知道了
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在EECS240 lecture中,随着L的增大,VTH是先上升,然后下降,其中有考虑到holo作用。
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这个需要具体问题具体分析了 影响的因素不是单一的
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helianalog
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& & 按照DIBL效应VTH是随L增大而增大的,但是现在的小尺寸工艺中一般都会采用halo结构,这样VTH和L的关系就不是那么确定了,有时候甚至随L增大而减少了
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一款高精度基准电压源的设计方案
2 基准电压的设计
对于一个工作在饱和区的二极管连接NMOS晶体管,如图4所示,它的Vgs=Vds流过它的饱和漏电流为:
对于MOS管的阈值电压Vth,它的一阶近似表达式可以表示为:
式中:Vth0为MOS管工作在绝对零度时的阈值电压;aVT为一个与温度无关的常数;T-T0为温度变化量。对于一个MOS管的迁移率&n:它的大小可以表示为:
&n=&n0(T/T0)-m (19)
式中:&n0为绝对温度时MOS管的迁移率值;T0为绝对零度;T为温度变化量;m为比例变化因子,它的典型值为1.5.
令式(10)中I1为式(17)中的Id,即:I1=Id,将式(10)、式(18)和式(19)代人式(17)整理可得:
从式(21)可看出,如果适当调节晶体管的宽长比W/L,使得зVgs/зT=0,即:
便可以得到一个高精度、与温度无关的Vgs,即Vref=Vgs=Vds.此思想设计的具体实现电路如图5所示。
对图5进行分析,NMOS晶体管M1和M2通过Vgs1和Vgs2产生漏电流Id1,再通过电流源M3和M7,使得它流入二极管连接的NMOS晶体管 M12,产生一个基准电压源Vref.在图5中,M3~M7五个晶体管尺寸相同,M1和M2晶体管的宽长比比例为1:m.式(21)中的W/L为图5中二极管连接M12管的宽长比。
3 仿真结果与分析
对图3PTAT产生电路进行仿真,可以得到图6仿真结果。
从图6仿真结果可以看出,流过M1管的漏电流与绝对温度成正比,&I/&T△0.6.
对图5基准电压源电路进行仿真,可得如图7所示结果。通过对图7分析可知,在25℃时,基准电压源的电压约为1.094.04 V,在整个温度范围(-40~80℃)内,其温度漂移系数为6.12 ppm/℃,满足高精度基准电压源的设计要求。
在此,基于SMIC 0.18&m CMOS工艺,采用一阶温度补偿作为基准电压补偿,提出一种新颖的PTAT电流产生电路结构,以对二极管连接的NMOS晶体管的阈值电压进行补偿,得到一个高精度基准电压源。该电路占用芯片面积小,精度高,可移植性强,非常适用于当今高精度的A/D,D/A和高精度运放偏置电路。此电路已成功应用于某款高速DAC芯片中。
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SMIC+0.18μm+CMOS带隙基准源设计论文.pdf56页
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带隙基准源是模拟集成电路中一个重要的单元。它为其它功能模块,比如偏置电路,参考电路
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