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如果你有一个好创意 你会申请专利还是将其卖掉？
作者：佚名&&&
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　　编者按：本文作者 Stephen Key 是一名发明家、作家、演讲家，还是 InventRight 有限责任公司的联合创始人。
　　今年我为了宣传新书《你出售的创意是否有申请专利》而四处奔波，因此有机会看到那些亲自发布自己新产品和新商业模式的人。每个人都想知道的是：他们是否需要专利？
　　大部分的创新者都非常担心他们的创意会被他人盗龋可是问题并不那么简单。就在前些日子，在贸易展销会上我无意中听了一场针对创新者的讲话，演讲者表示 “然后你要申请一个专利……”。什么？你所要做的是谨慎考虑，然后制定出一个商业策略。你究竟想通过获得专利来实现什么？你怎么实现？据我所知，知识产权的背后是绝没有坚实证据来支撑的。
　　这里要郑重声明下，我是专利持有人。事实上我有近 20 项专利，且还在继续申请中我最近的专利是在去年申请的。在联邦法庭上，在与世界上最大玩具公司的诉讼中我取得胜诉，保护了我的知识产权。20 多年来，就自己受专利法保护的技术，我一直都有收取版权费。我在美国专利和商标局 (Patent and Trademark Office) 就专利的作用进行过辩论。每当谈及我所了解的东西时，都是自己的经验之谈。
　　你是否需要专利 ？也许需要，也许不需要，这取决于你问谁。
　　1.如果你问专利代理人，答案当然会是需要
　　保护你是专利代理人的职责所在。在这方面他们做的很好。但是你不需要保护你的每一个创意。在咨询代理人前，你自己需要知道专利这方面的专业知识。你需要对创意的市场潜力进行评估，然后再决定是否还需要申请专利。因为代理人最终所做的决定只会取决于你给他提供的信息和见解。学会如何为你的优势产品提交临时专利申请是至关重要的。
　　2.如果你问一个害怕他人窃取自己创意的首次发明者，他的答案当然是需要
　　但是事实是，专利并不能杜绝跟风产品在市场上的出现。世界上最厉害的公司也无法摆脱被山寨这一难题。专利只是一种战略。在联邦法庭辩诉后，我确定了一点：我们永远无法拥有任何东西，所谓的所有权只是感知上的。
　　我希望创新者不要因为惧怕遭受窃取而申请专利。你可以为此担忧但并无需害怕。让自己获得授权。
　　3.如果你询问那些正在创业并需要获得投资的人士，他们的答案也是需要
　　投资方需要知道他们能从中得到什么，这点是毋庸置疑的。你投入了多少时间和金钱，通过专利便可得知。不过仅靠一项专利是不够的，你需要满墙的知识产权证书，包括版权和商标，来证明你的所有权。因此提前制定好一个深思熟虑的战略是关键所在。
　　4.如果你问那些诸如医疗、汽车和包装等高科技产业的发明者，他们的答案也是需要
　　像这类行业需要具备很强的专业技术。创新通常是发生在行业内部，且创新进程缓慢(试想一下哪怕是进行最小改变时的设备需求)。正因如此，且需要大量资金支持，知识产权才如此至关重要。机会很多，但同时也存在风险。
　　5.如果你看鲨鱼坦克(Shark Tank)，所有的鲨鱼都会对你说：需要
　　记住，鲨鱼们买的是业务而非创意。如果你在创业，那么拥有一些知识产权是很重要的，这让每个人都觉得心安。但真相却是在联邦法庭上捍卫你的专利需要付出昂贵的成本。一旦你的产品具备了一定名气，那么 “山寨版” 便会横空出世。
　　这就是现实。我们大多数人发明的都是消费产品，而大部分的消费产品是没有获得专利的。这一情况我很了解，因为基本上每周我都会以inventRight 联合创始人的身份来帮我学生敲定许可协议。
　　大多数时候，创意是不受专利保护的它们仅仅只受临时专利的保护。如果发明者需要申请知识产权，临时专利是一个选择。因为大部分产品的寿命周期很短，不需要知识产权。很有可能专利权还没批下来，产品就已经退出市场了。
　　多年以来，我的想法是什么？保护你发明的最好方式就是先通过市朝来获得大量的顾客支持。
　　请从商业角度而非法律角度来看待创意保护。那么说到底，你是会保护你的创意还是将其卖掉？
　　注：本文译者 Trista Dong。
　　本文编译自：，如若转载，请注明出处：/p/5044926.html
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责任编辑：cnfol001
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嗯，你说的对，但我的产品简单，必须做出来，用看效果，要是先看效果，又怕被她人盗取，
保密工作你就先要做好 成型的产品去申请专利才是比较实惠和适用的
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先把东西弄把了，技术成熟了，在申报专利，可以联系，期待和您的合作
肯定是先出产品啊！
登录百度帐号推荐应用后续开发的专利侵权风险控制
&&&&&&&&&&内容摘要：以现有技术或产品为基础，所进行的优化、组合、改进、完善，以及开发相关配套技术或产品等活动，都是所谓后续开发。从后续开发的基础和方式，以及他人专利的申请等方面，可以识别后续开发的专利侵权风险来源。同时，结合专利侵权判断规则，可以初步判断侵权风险发生与否的可能性。在此基础上，可以采取利用失效专利、专利回避设计、联合后续开发、采取保密措施等预防性措施，以及购买背景专利、进行交叉许可、请求强制许可等补救性措施，来干预后续开发中的专利侵权风险。
关 键 词：后续开发&&专利侵权&&风险&&控制
一、后续开发的内涵及其发展方向
（一）后续开发的内涵
作为与原始创新相对应的后续开发，其内涵具有相当的弹性。以现有技术或产品（为行文方便，技术与产品在本文简称技术）为基础，所进行的优化、组合、改进、完善，以及开发相关配套技术或产品等活动，都可以谓之后续开发。它既可以是对技术或产品本身进行优化改进或二次开发，也可以是从产业发展的角度开发相关的衍生技术或配套产品，因此，后续开发比之技术改进、二次开发的范畴更为广泛。
任何一项技术，任何一个产品，在初生之始，或者因为技术缺陷仍然需要解决，或者因为应用领域未能充分发挥，或因为配套产品无法同步跟进，因而都存在后续开发的广阔空间。如果仅有原始创新的成果，而无后续开发的支持，那么，相应的技术或产品将处于相当粗糙的阶段，惟有原始创新与后续开发相互支持，人类社会才得以更好的享受科技带来的成果。
（二）后续开发的方向
后续开发存在不同的路径，其开发与创新的思维，在不同的行业、不同的领域，自然存在不同的模式。但是，究其本质，大致可以归结为以下发展方向：
1、技术纵向发展
技术的纵向发展，是指通过进一步改进完善技术，以克服其缺陷或不足，而使现有技术向其极限方向发展。比如，显著延长手机电池的待机时间、显著降低中药的副作用等。
2、技术应用拓展
技术的应用拓展，是指所将现有技术的用途，由已知的应用领域向新的应用领域延伸或渗透。比如，黄连素原用于消化道疾病，后来又用于治疗糖尿病。
3、技术外围开发
技术的外围开发，是指围绕一项现有技术，而发展与之配套的技术，以达到提升现有技术的产业价值，或支持现有技术的产业应用等目标。比如，笔记本电脑经过创新变得日益轻薄，如果相配套的电源转换器仍然显得粗笨厚重，自然无法适应笔记本电脑轻薄的发展态势。
后续开发作为一种创新方式，一方面可以形成新的专利、技术秘密、著作权（主要是软件著作权）等知识产权，另一方面也可能存在侵犯他人专利、技术秘密或著作权等知识产权的风险。限于篇幅，本文只讨论后续开发的专利侵权风险问题。
二、后续开发的专利侵权风险识别
如何识别后续开发专利侵权风险，可以从以下几个层面展开：
（一）从后续开发基础进行识别
后续开发以现有技术为基础，而现有技术是否存在专利权，攸关后续开发成果利用的专利侵权风险问题：
1、后续开发的基础为无专利技术，则无侵犯背景专利权的风险。
无专利的技术既包括从来未取得专利保护的自由公知技术，也包括曾经取得专利保护，但因为未缴纳专利年费、超过保护期限等原因，已经进入公有领域的技术，比如失效专利。在无专利技术的基础上进行后续开发，自然不存在侵犯背景专利权（即后续开发之基础技术所享有的专利权）的法律风险。
2、后续开发的基础为专利技术，存在侵犯背景专利权的可能性。
如果后续开发的基础是享有专利权的技术，那么，后续开发是否存在侵犯背景专利权的法律风险，不能一概而论，需要结合后续开发的方式，进一步判断。
（二）从后续开发方式进行识别
从前述后续开发的方向，可以大致将后续开发的方式分成两种基本的类型：
1、后续改进开发
后续改进开发是指在基础技术之上，为克服或避免技术缺陷、提升或拓展技术功效，而进行优化组合、发展革新等开发活动。比如，上海宝钢多年前在引进世界第一台专烧低热值高炉煤气的燃汽轮机发电机组时，采用了阿尔斯通公司独创的轻油枪专利技术，用于机组启动点火。1997年投产后，轻油枪在运行期间由于内部结焦，始终不能正常发挥功能，致使机组启动成功率仅为47%，不仅需要频繁清洗、更换，而且影响机组稳定运行。2000年宝钢电厂投入技术人员对这一进口设备的缺陷进行技术攻关，对轻油枪结构和吹扫系统实施改造，经过反复跟踪试验和调整，取得突破，形成了一项专利和两项技术秘密。宝钢“轻油枪防结焦”专利技术投入使用后，大大缩短了机组启动时间，启动成功率达100%，且延长了使用寿命，保证了设备的连续作业。
由于这里的后续改进开发，是直接建立在基础技术之上进行二次开发，因此，如果基础技术享有专利权，那么，后续改进开发的成果有可能落入背景专利的保护范围，发生专利侵权问题。至于何种条件下会发生侵权问题，容后再述。
2、后续外围开发
后续外围开发是指围绕现有技术，而发展与之配套的技术的开发活动。比如，围绕一种新型自行车的技术方案，开发各种脚踏板、各种背包架、各种车把手等外围产品或技术。
由于后续外围开发的技术对于基础技术而言，主要是起支持或辅助的作用，并不直接建立在基础技术之上，只是与基础技术的实施利用密切相关。因此，即使基础技术存在专利权，后续外围开发的技术（外围技术或配套技术）往往也不会侵犯背景专利权。但是，外围技术或配套技术有可能对背景专利存在严重的依赖性，必须与背景专利配合使用，才能发挥自身的价值，而并不具有独立的产业应用价值。
（三）从他人专利申请进行识别
前述的专利侵权风险，都是来自基础技术的背景专利。然而，还必须注意他人专利所带来的侵权风险问题。如果后续开发的成果已经被他人（可能是基础技术的开发人，也可能是第三人）申请专利，或者正在被他人申请专利，那么，后续开发将陷入一个尴尬的境地，不仅要担心来自背景专利权（如果存在的话）的困扰，还要担心来自另一个专利权的困扰。这种状况的发生，存在以下几种可能性：
1、他人早已取得后续开发成果，并已提交专利申请，专利申请已经公开或者已经授权，但自己未作检索或未检索到，即投入相同内容的后续开发。
2、他人早已取得后续开发成果，并已将后续开发成果提交专利申请，但尚未公开，自己不能检索到相关信息，而投入相同内容的后续开发。
3、他人早已取得后续开发成果，一直作为技术秘密保护，并在自己将后续开发成果提交专利申请前，把相同内容的技术秘密申请为专利。
4、他人在自己从事后续开发的同时或前后，也在进行相同内容的后续开发，并在先将后续开发成果申请专利。
三、后续开发的专利侵权风险判断
识别了后续开发的专利侵权风险之来源后，需要进一步厘清专利侵权风险发生与否的判断。根据《专利法》等法律的规定，发明专利、实用新型专利和外观设计专利，在专利侵权的判断规则有所不同。“花开两朵，各表一枝”，下面分别简述发明和实用新型专利侵权与外观设计专利侵权的判断方法，以便确认后续开发成果是否存在侵犯背景专利权的事实，从而采取相应的对策。
（一）后续开发中发明专利与实用新型的专利侵权判断
1、确定发明或实用新型专利权的保护范围
发明或者实用新型专利权的保护范围以其权利要求的内容为准，说明书及附图可以用于解释权利要求。而权利要求书应当由反映发明或实用新型内容的技术特征组成。因此，通过权利要求书确定背景专利的技术特征，也就确定了背景专利权的保护范围。
2、提炼后续开发成果的技术特征
提炼后续开发成果的技术特征，并以此为基础，比较其和背景专利的异同之处，从而为作出专利侵权与否的判断提供基础。
3、通过相互比较评估是否侵权
将经过分解后的专利权利要求所记载的必要技术特征，与后续开发成果的技术特征一一对应比较，通过运用下列基本原则，判断是否构成专利侵权：
（1）全面覆盖原则的适用
如果后续开发成果将背景专利权利要求中记载的技术方案的必要技术特征全部再现，也即后续开发成果的技术特征包含了背景专利权利要求中记载的全部必要技术特征，则落入背景专利权的保护范围，构成专利侵权。实践中，下列情形也可以适用全面覆盖原则，认定后续开发成果落入背景专利权的保护范围，构成专利侵权：
²当背景专利独立权利要求中记载的必要技术特征采用的是上位概念特征，而后续开发成果采用的是相应的下位概念特征时，则构成专利侵权。
²如果后续开发成果不仅包含了背景专利权利要求书中记载的全部必要技术特征，而且还增加了新的技术特征，即使后续开发成果的技术效果与背景专利技术不相同，仍然应认为落入背景专利权的保护范围，构成专利侵权。
背景专利必要技术特征
后续开发成果技术特征
A＋B＋C＋D
A＋B＋C＋D
后续开发成果的技术特征全部呈现了背景专利的必要技术特征，落入背景专利技术的保护范围之内
A＋B＋C＋D
A＋B＋C＋F
D是F的上位概念特征，后续开发成果仍然落入背景专利权的保护范围，
A＋B＋C＋D+E
后续开发成果的技术特征不仅包括了背景专利必要技术特征A、B、C、D，还增加了技术特征E
表1：全面覆盖原则的适用
（2）多余指定原则的适用
如果后续开发成果的技术特征与背景专利的技术特征相比，虽然缺少独立权利要求中的部分必要技术特征，但缺少的必要技术特征经过分析，实际应作为非必要技术特征，而不应当作为该背景专利的必要技术特征，此时侵权成立。
背景专利的必要技术特征
后续开发成果的技术特征
A＋B＋C＋D
后续开发成果缺少技术特征D&，但是，写在背景专利独立要求之中D，实际上是非必要技术特征
表2：多余指定原则的适用
对于记载在独立权利要求中的非必要技术特征的认定，应当结合背景专利的说明书及附图中记载的该技术特征在实现发明目的、解决技术问题上的功能和效果，以及专利权人在专利审批或者无效审查程序中向专利局或者专利复审委员会所做出的涉及该技术特征的陈述，进行综合分析判定。
由于多余指定原则的适用实际上扩张了专利权人的保护范围，稍有不慎，反而损害社会公共利益，因此，法院对多余指定原则的适用相当谨慎，目前已有废弃之势。
（3）等同原则的适用
如果后续开发成果中有一个或者一个以上技术特征经与背景专利独立权利要求保护的技术特征相比，从字面上看不相同，但经过分析可以认定两者是相等同的技术特征（等同特征），此种情形下，应当认定后续开发成果落入了专利权的保护范围，构成侵权。
背景专利必要技术特征
后续开发成果技术特征
A＋B＋C＋D
后续开发成果的技术特征E&与专利独立要求中的D表面上不同，实质上相等
表3：等同原则的适用
尽管我国《专利法》中未明确规定等同原则，但适用等同原则判断专利侵权，已为我国司法解释和司法实践所认可。不过，与多余指定原则一样，等同原则也扩张了专利权的保护范围，运用不当可能损及公共利益，因此，在司法实践中，法院对等同原则的适用也相当谨慎。
（二）后续开发中外观设计的专利侵权判断
1、确定外观设计专利产品与后续开发成果是否属于相同或相似商品
外观设计专利侵权判定中，首先应当参照外观设计分类表，并考虑商品销售的客观实际情况，审查后续开发成果与背景专利产品是否属于同类产品。不属于同类外观设计产品的，一般不构成专利侵权。但要注意，虽然同类产品是外观设计专利侵权判定的前提，但不排除在特殊情况下，类似产品之间的外观设计亦可进行侵权判定。
2、确定外观设计专利权的保护范围
根据《专利法》56条第2款的规定，外观设计专利权的保护范围以表示在图片或者照片中的该外观设计专利产品为准。对于外观设计的简要说明可以用于理解该外观设计专利的保护范围。
3、通过对比外观设计专利与后续开发成果判断否构成侵权
将外观设计专利与后续开发成果进行对比，判断后续开发成果与外观设计专利产品是否构成相同或相近似，如果相同或相近似则构成专利侵权。
四、后续开发的专利侵权风险干预
（一）后续开发的专利侵权风险预防
后续开发的专利侵权风险之预防，系采取防患于未然的措施，避免出现因后续开发而发生专利侵权的风险，其措施主要有：
1、利用失效专利
失效专利并不止于超过保护期限的专利，很多专利未到保护期限也会失效，比如因未缴纳或未缴足年费、权利人自动放弃专利权或专利被无效宣告等原因而发生专利失效之结果，这些专利可能才获得授权仅廖廖数年时间，其技术可能仍然保持着相当的先进性，有的专利只是由于权利人无力实施，又畏于专利维持的不菲费用，所以只好放弃专利权。
失效专利虽然失去专利保护的法律效力，但技术含量和市场价值却不一定随同失效。通过对失效专利的借鉴发挥、改进完善，创造出自己的新技术、新工艺、新产品。这样，不仅取得的技术成果会更有领先水平，而且不会受到背景专利的障碍和牵绊。
2、专利回避设计
“回避设计”（Design
around）是技术创新过程中一种常见的技术开发策略，即通过设计一种不同于受专利保护的新方案，来规避该项专利权。本质上，专利权本身并不能回避，但是技术研发人员可以采用不同于受专利权保护的技术方案的新的设计，从而避开他人某项具体专利权的保护范围。通过回避设计进行后续开发，可以在市场竞争中有效避免他人专利的牵制，获得自主经营的空间。
对他人的专利进行回避设计，首先需要确定拟回避专利的保护范围大小。通过分析其权利要求书，结合专利说明书和相关审查过程中的往来文件，确认该权利要求字面的真实含义，以及其等同物的范围。将前述分析得到的专利保护范围大小作为对比基准，来检验将来回避设计的方案是否包括拟回避专利的所有必要技术特征，
根据全面覆盖原则、等同原则和多余指定原则的规则，换一个角度来看，如果回避设计的方案存在以下情形，则不构成专利侵权：
专利必要技术特征
回避设计方案的技术特征
A＋B＋C＋D
回避设计方案相比于专利缺少一个或一个以上必要技术特征，且无多余指定原则的适用
侵权不成立
A＋B＋C＋D
A＋B＋C＋E
回避设计方案相比于专利有一项或一项以上必要技术特征不相等，则不构成专利侵权，且无等同原则的适用
侵权不成立
表4：不构成专利侵权的情形
3、联合后续开发
随着知识的积累和技术的进步，技术越来越多样化，技术越来越复杂化，技术的困难度也越来越高，发展新技术所需要投入的资金也大幅攀升，而在竞争者威胁、产品生命周期缩短、技术变迁迅速等严峻的挑战之下，企业在高度竞争的环境和有限资源的限制下，如何利用较少的资源去达成更多的目标，分担越来越高的经营风险，成为企业经营者的重要关注议题。因此企业之间借研发合作以分担风险，已成为不可阻挡的趋势。
如果后续开发的基础技术存在专利权，而回避设计难以成功或者成本较高，则可以考虑与背景专利权人联合进行后续开发，共同集聚各自的优势资源与技术力量，取长补短，相互支持，共同解决基础技术存在的缺陷，或者提升基础技术的功效。当然，联合开发通常也意味着后续开发成果由合作各方共同分享，但对于非背景专利权人而言，虽然不能独专其利，却借此解除了背景专利可能带来的侵权上的困扰或实施上的制约，其利弊得失，权衡便知。
4、采取保密措施
现代社会，技术竞争激烈，技术开发过程及其成果因而也视作商业秘密，严加保护。对于后续开发而言，也是如此。采取有效的保密措施，防止相关信息的泄露，可以有效防止他人得知自己的后续研发动向后，将其相同内容的技术秘密转换为专利申请，或者抢先将相同的后续开发成果申请专利，以制约自己的后续开发活动。
此外，在后续开发之前及其进行过程中，都应当重视专利检索，防止后续开发出现重复研究，甚至后续开发成果侵犯他人专利的情形发生。如果在后续开发过程中，检索到最新公布的专利信息，发现他人已经将自己后续开发的成果申请专利，则应停止相同内容的研究，另寻出路。
（二）后续开发的专利侵权风险处理
如果后续开发的成果终因各种原因，不可避免地出现了专利侵权的现实风险，那么，需要采取必要的措施将侵权风险的损失降至最低，以下措施是一些不完全的建议：
1、购买背景专利
法律上的争议可以采取商业的方式进行处理。如果自己后续开发的技术侵犯了背景专利权或者严重依赖背景专利权，可以尝试购买背景专利权人的许可，甚至将其专利所有权受让过来，彻底解决后顾之忧。有的背景专利权人乐于向后续开发者发放许可证，以获得经济回报。但有的背景专利权人可能基于各种商业考虑，不愿意开放许可，以压制后续开发者的商业竞争，这时，可能需要采取一些策略性的行动。
电脑芯片制造商威盛（Via）公司的做法值得借鉴。威盛公司曾经把公司的将来押在开发速度快、成本低、与Intel兼容的芯片设施上。然而，在1999年6月，Intel打乱了威盛公司的发展计划，它终止了发给威盛公司的许可证，并控告其侵权。但威盛公司巧妙地绕过了英特尔公司的封锁：它收购了国家半导体公司的克莱克斯芯片制造部，这个部门拥有Intel发放的许可证。然后，在国家半导体公司的生产支持下，威盛公司飞速进入利润丰厚、发展迅速的新市场。
2、进行交叉许可
交叉许可其实就是“相互许可”，即许可人和被许可人相互许可对方实施自己所拥有的技术而形成的实施许可。在许可贸易中经常发生交叉许可的问题。被许可人可能拥有对许可人极具价值的技术，这时可以进行交叉许可，在类似的期限和条件之下允许双方使用对方的技术。
如果后续开发的技术，对于背景专利具有相当的价值，比如相互配合使用，可以让背景专利发挥更为良好的效果，那么，后续开发者可以与背景专利权人谈判交叉许可，从而通过技术合作解决可能发生的专利侵权争议。如果背景专利已经被放置于一个专利池（patent
pool）中，而后续开发的专利既依赖于背景专利，又具有相当重要的价值，也可以借此加入这个专利池，从而获得更多的利益。
3、请求强制许可
我国《专利法》第6章专门规定了“专利实施的强制许可”，2003年国家知识产权局发布了《专利实施强制许可办法》。目前，我国专利法上的强制许可分为“为公共利益的强制许可”、“防止滥用的强制许可”、“从属专利的强制许可”三类。这些强制许可都只针对发明专利和实用新型专利，不适用于外观设计专利。
其中“从属专利的强制许可”规定在《专利法》第50条：“一项取得专利权的发明或者实用新型比前已经取得专利权的发明或者实用新型具有显著经济意义的重大技术进步，其实施又有赖于前一发明或者实用新型的实施的，国务院专利行政部门根据后一专利权人的申请，可以给予实施前一发明或者实用新型的强制许可。/在依照前款规定给予实施强制许可的情形下，国务院专利行政部门根据前一专利权人的申请，也可以给予实施后一发明或者实用新型的强制许可。”因此，后续开发者可以依据《专利法》第50条的规定，请求对背景专利实施强制许可。
—————《中国高校科技与产业化》2008年第4期。&
&作者单位：上海知识产权研究所，上海协力律师事务所。
&宋晓亭：“中药专利技术二次开发的思路与方案设计”，《中医药现代化》2004年第5期。
&李荣：“解决进口设备缺陷　宝钢专利技术返销”，《中国知识产权报》2004年12月7日。
&参见陈有西、程永顺、李虹、张玉瑞：《企业反侵权法律指南》，人民法院出版社2001年第1版，第145页以下。
&根据《最高人民法院关于审理专利纠纷案件适用法律问题的若干规定》（法释（2001）21号）第17条第2款，等同特征是指与专利权利要求书所记载的技术特征，以基本相同的手段，实现基本相同的功能，达到基本相同的效果，并且本领域的普通技术人员无需经过创造性劳动就能够联想到的特征。例如，在特定的技术主题中，传送皮带与齿轮、二极管与电容器、螺钉与铆钉等都可以视为相互的等同物。
&吴锦伟：“知识产权是否可以实现回避设计”，，。
（美）凯文&里韦特、戴维&克兰：《尘封的商业宝藏——启用商战新的秘密武器：专利权》，陈彬、杨时超译，中信出版社2002年版，第154页。
&专利池是基于产业利用的目的，将若干企业拥有的相关专利集中起来进行组合，各企业内部之间相互交叉许可，但统一对外发放许可。
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