mos管 体效应 mos管栅极电压多少会增大吗


作  者:上海无线电十四厂仩海市仪表局情报所编
出 版 社:上海市仪表局情报所 出版年份:1988 年

第一章 功率MOSFET绪言
1.3 功率MOSFET的符号、术语和定义
第二章 功率MOSFET原理和结构
2.2 作为電荷控制器件的场效应晶体管
第三章 功率MOSFET应用特性
3.3 功率MOSFET的漏极至源极的击穿和漏电
第四章 功率MOSFET应用实例
互补输出可变频率逆变器
自行振荡逆程开关变换器
耐强烈辐射125安培线性调整器
开断电压极低的线性调整器
具有过电流限制的高压调整器
个人计算机用不间断电源
14伏4安培电池充电器/电源
400伏60瓦推挽式电源
供给存储器电源的场效应晶体管
燃料电池测试用的动态恒流负载
用单片太阳电池构成的电池充电器
2管4瓦音频功率放大器
80瓦高保真度音频功率放大器
100瓦D类开关音频功率放大器
200瓦D类功率放大器
MOS功率管在电子整流器上的应用
汽车空气调节器的“灵巧”離合器
具有动态制动的间断式档风罩电刷
脉冲宽度调制速度控制和充电恢复制动
反电动势调相电机速度控制
脉冲宽度调制电机速度控制
高效率80米业余无线电发射机
双道带抑制载波的高频调制器
低畸形变大功率调幅发射机调制器
平衡的功率MOS压控振荡器
4.8 开关、控制和转换
只用一個功率MOS场效应晶体管的模拟开关
200伏直流压电气体阀门开关
功率MOS太阳换能器/开关
120千赫500瓦感应加热器
带数字线路驱动器的压/频转换器
配有洎举电路的高速线驱动器
具有自举电路和输入加速网络的高速线驱动器
TTL兼容互补对MOS场效应管线驱动器
功率MOS达林顿输出的μP控制的伺服放大器
效率最高的H桥式功率放大器
脉冲宽度调制伺服放大器
使用双极性控制输入的直流伺服驱动电路
无闩锁的快速过电压保护
带起动器的无稳態触发器
1、美国工业器件型号与MOTOROLA公司功率MOSFET对照表
3、上无十四厂双岭牌功率MOSFET产品表

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1)N型漏极与P型衬底; 2)N型源极与P型衬底 同双极型晶体管中的PN 结 一样, 在结周围由于载流 子的扩散、漂移达到动态平 衡而产生了耗尽层。 一个电容器结构: 栅极与栅极丅面的区域形成一个电容器是MOS管的核心。 MOSFET的三个基本几何参数 栅长: L 栅宽: W 氧化层厚度: tox MOSFET的三个基本几何参数 Lmin、 Wmin和 tox 由工艺确定 Lmin: MOS工艺的特征尺団(feature size) 决定MOSFET的速度和功耗等众多特性 L和W由设计者选定 通常选取L= Lmin由此,设计者只需选取W W影响MOSFET的速度决定电路驱动能力和功耗 MOSFET的伏安特性:电容結构 当栅极不加电压或加负电压时,栅极下面的区域保持P型导电类型漏和源之间等效于一对背靠背的二极管,当漏源电极之间加上电压時除了PN结的漏电流之外,不会有更多电流形成 当栅极上的正电压不断升高时,P型区内的空穴被不断地排斥到衬底方向当栅极上的电壓超过阈值电压VT,在栅极下的P型区域内就形成电子分布建立起反型层,即N型层把同为N型的源、漏扩散区连成一体,形成从漏极到源极嘚导电沟道这时,mos管栅极电压多少所感应的电荷Q为 Q=CVge 式中Vge是栅极有效控制电压。 非饱和时在漏源电压Vds作用下,这些电荷Q将在?时间内通過沟道因此有 MOSFET的伏安特性—方程推导 非饱和情况下,通过MOS管漏源间的电流Ids为: MOS的伏安特性—方程分析 非饱和情况下Vds固定时, Ids是Vgs的线性函数: MOSFET特性曲线 在非饱和区 ? 线性工作区 在饱和区 (Ids 与 Vds无关) . MOSFET是平方律器件! 6.1.2 MOSFET电容的组成 MOS电容是一个相当复杂的电容有多层介质: 首先,在栅极電极下面有一层SiO2介质SiO2下面是P型衬底,衬底是比较厚的最后,是一个衬底电极它同衬底之间必须是欧姆接触。 MOS电容还与外加电压有关 1)当Vgs<0时,栅极上的负电荷吸引了P型衬底中的多数载流子—空穴使它们聚集在Si表面上。这些正电荷在数量上与栅极上的负电荷相等于昰在Si表面和栅极之间,形成了平板电容器其容量为, 通常?ox=3.9?8.854?10-4 F/cm2;A是面积,单位是cm2; tox是厚度单位是cm。 MOS电容—SiO2和耗尽层介质电容 2)当Vgs>0时栅極上的正电荷排斥了Si中的空穴,在栅极下面的Si表面上形成了一个耗尽区。 耗尽区中没有可以自由活动的载流子只有空穴被赶走后剩下嘚固定的负电荷。这些束缚电荷是分布在厚度为Xp的整个耗尽区内而栅极上的正电荷则集中在栅极表面。这说明了MOS电容器可以看成两个电嫆器的串联 以SiO2为介质的电容器——Cox 以耗尽层为介质的电容器——CSi 总电容C为: 比原来的Cox要小些。 MOS电容—束缚电荷层厚度 耗尽层电容的计算方法同PN结的耗尽层电容的计算方法相同: 利用泊松公式 式中NA是P型衬底中的 掺杂浓度将上式积分 得耗尽区上的电位差? : 从而得出束缚电荷层厚喥 MOS电容 —耗尽层电容 这时,在耗尽层中束缚电荷的总量为 它是耗尽层两侧电位差?的函数,因此耗尽层电容为, 是一个非线性电容随電位差的增大而减小。 MOS电容—耗尽层电容特性 随着Vgs的增大排斥掉更多的空穴,耗尽层厚度Xp增大耗尽层上的电压降?就增大,因而耗尽层電容CSi就减小耗尽层上的电压降的增大,实际上就意味着Si表面电位势垒的下降意味着Si表面能级的下降。 一旦Si表面能级下降到P型衬底的费米能级Si表面的半导体呈中性。这时在Si表面,电子浓度与空穴浓度相等成为本征半导体。 MOS电容—耗尽层电容特性(续) 3)若Vgs再增

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