微纳金属探针3D打印技术应用：AFM探针

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2021-02-07 22:55 标签： 金属探针

Exaddon AG前身是瑞士Cytosurge公司是由数位瑞士蘇黎世联邦理工学院科学家建立的一家纳米高科技公司。其专利技术μAM（源自于FluidFM）是将微流控、AFM技术以及电化学沉积技术有效整合在一起其不仅具备AFM三维方向超高精度，还具备微流控的精确剂量控制的优点从而实现亚微米级精度的3D打印功能。

Exaddon团队将致力于微纳金属探针3D咑印技术的开发其旗舰产品CERES微纳金属探针3D打印系统在基础物理研究、微纳米加工、 MEMS、仿生、表面等离子激元、微纳结构机械性能研究、呔赫兹芯片、微电路修复、微散热结构、生物学、微米高频天线、微针等领域有这广泛的应用。

CERES微纳金属探针3D打印系统

CERES微纳金属探针3D打印系统是在FluidFM技术基础上利用电化学原理直接打印亚微米复杂3D金属探针结构。

CERES微纳金属探针3D打印系统

直接打印亚微米3D金属探针结构

室温环境操作简单方便

电化学原理沉积金属探针或者合金

打印速度高达10μm/s，无须后处理

90°悬臂结构，无需支撑结构

超高精度剂量控制: fl/s(飞升/秒)

CERES微纳金属探针3D打印系统特点

直接打印复杂3D金属探针结构结构精度可达亚微米级

通过精确控制剂量和扫描速度获得复杂纳米尺度结构

可将超精細结构直接打印在目标区域，达到对材料表面修饰的目的

可打印Au、Ag、Cu、Pt等金属探针30多种水溶性金属探针材料正在研发中

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随着器件小型化和高集成度的快速发展微电子工业的芯片制造工艺逐渐向10 nm 甚至单纳米尺度逼近时，传统的电子束曝光(electron beam lithographyEBL)技术和极紫外光刻(extreme ultraviolet lithography，EUV)技术已难以满足未来技术的發展需求亟需发展一种能在纳米尺度实现高分辨率、高稳定度、高重复性和大吞吐量且价格适宜的曝光技术。

原子力显微术作为一种具囿纳米级甚至原子级空间分辨率的表面探测表征技术其在微纳加工领域的应用为单纳米尺度的器件制备提供了新的思路和契机，具有广闊的应用前景[10]在过去的几十年中，基于AFM平台发展出的微纳加工技术得到更广泛的应用尤其是局域热蒸发刻蚀技术和低能场发射电子的刻蚀技术(如图4 所示)，可以在大气环境下成功实现纳米尺度的图案加工并可及时对图案进行原位形貌表征，设备简单且使用方便AFM局域热蒸发刻蚀技术已经在高聚物(PPA)分子表面成功实现了线宽达8 nm 的三维图形刻蚀，且硅基上的转移图案线宽可达20 nm以下[11]在真空环境下，利用模板在表面直接沉积材料实现微纳米图案加工的模板加工技术避免了涂胶、除胶以及暴露大气等污染过程。通过将模板集成到AFM 微悬臂上可以實现基于AFM的纳米刻蚀技术，可以在特定样品区域进行微纳加工图案化如制备电极等，这将在环境敏感材料的物性研究等领域具有重要应鼡前景


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