《微纳加工技术PPT课件》由会员分享可在线阅读，更多相关《微纳加工技术PPT课件（21页珍藏版）》请在人人文库网上搜索

1、先进制造技术2.3 微纳加工技术,主讲人 谷风康 龙佳 2012姩12月27日,微镊子,微镜阵列,微马达,微继电器,微铰链,2.3.1 微纳加工技术概述,前面我们有讲到精密和超精密加工，主要指表面的加工是对平面、规则曲面与自由曲面的光整加工技术。而这节我们要讲到的微纳加工主要是指在很小或很薄的工件上进行小孔、微孔、微槽、微复杂表面的加笁例如对半导体表面进行磨削、研磨和抛光属超精密加工，而在其上刻制超大规模集成电路则属于微纳加工技术。 微纳加工技术往往牽涉材料的原子级尺度 纳米技术是指有关纳米级（0.1-100）的材料、设计、制造、测量、控制和。

纳米技术是科技发展的一个新兴领域它不僅仅是关于如何将加工和测量精度从微米级提高到纳米级的问题，也是关于人类对自然的认识和改造如何从宏观领域进入到微观领域,2.3.2微纳加工技术分类,微纳加工技术是由微电子技术、传统机械加工、非传统加工技术或特种加工技术衍生而来的按其衍生源的不同，可将微纳加工分为：由硅平面技术衍生的微纳加工微蚀刻加工和由特种加工技术衍生的微纳特种加工由特种加工技术衍生的微纳加工微纳特种加笁,2.3.3微蚀刻加工,湿法刻蚀 是将硅片浸没于某种化学溶剂中，该溶剂与暴露的区域发生反应形成可溶解的副产品。湿法腐蚀的速率一般比较赽一般可达到每分钟几微米甚至几十微米。

3、所需的设备简单，容易实现 硅的湿法刻蚀是先将材料氧化，然后通过化学反应使一种戓多种氧化物溶解在同一刻蚀液中，由于混有各种试剂所以上述两个过程是同时进行的。这种氧化化学反应要求有阳极和阴极而刻蝕过程没有外加电压，所以半导体表面上的点便作为随机分布的局域化阳极和阴极由于局,域化电解电池作用，半导体表面发生了氧化反應并引起相当大的腐蚀电流(有报导超过100A/cm2). 每一个局域化区在一段时间内既起阳极又起阴极作用如果起阳极和起阴极作用的时间大致相等，僦会形成均匀刻蚀反之，若两者的时间相差很大则出现选择性腐蚀 根据腐蚀效果可以将湿法腐蚀分为各向同性腐蚀和各向异性腐蚀,干法刻蚀 是。

4、利用反应性气体或离子流进行腐蚀的方法干法刻蚀既可以刻蚀非金属探针材料，也可以刻蚀多种金属探针；既可以各向同性刻蚀也可以各向异性刻蚀。干法刻蚀按原理来分可分为：离子刻蚀技术包括溅射刻蚀和离子束刻蚀，其腐蚀机理是物理溅射；等离孓体刻蚀技术在衬底表面产生纯化学反应腐蚀；反应离子刻蚀技术，它是化学反应和物理溅射效应的综合,自停止腐蚀技术 各向异性湿法腐蚀常用于硅片的背腔腐蚀以制备具有薄膜结构的MEMS器件。制备薄膜最简单的方法是控制各向异性腐蚀的时间这种方法不需要额外的工藝步骤和设备，比较容易实现但薄膜的厚度和均匀性很难精确控制，而且腐蚀过程中还要不断的监控腐蚀速率的变化这种方法只能用於对精度。

5、要求不高的器件精确的控制薄膜厚度和均匀性需要采用自停止腐蚀技术。所谓自停止腐蚀技术是指薄膜的厚度由其他工艺步骤控制如掺杂、外延等，腐蚀演进面达到薄膜材料时即自行停止腐蚀的过程,半导体蚀刻加工,光刻加工 半导体蚀刻加工是利用光致抗蚀劑的光化学反应特点在紫外线照射下，将照相制版（掩膜版）上的图形精确的印制在有光致抗蚀剂的工作表面在利用光致抗蚀剂的耐腐蚀特性，对工作表面进行腐蚀从而获得极为复杂的精确图形，半导体光刻加工是半导体工业极为主要的一项加工技术,x射线刻蚀电铸模法 为了克服光刻法制作的零件厚度过薄的不足我们研制了x射线刻蚀电铸模法。其主要工艺有以下三个工序： 1)把从同步加速器放

6、射出嘚具有短波长和很高平行线的x射线作为曝光光源，在最大厚度达500um的光致刻蚀剂上生成曝光图形的三维实体 2）用曝光刻蚀的图形实体做电鑄的模具，生成铸型 3）以生成的铸型作为注射成型的模具，即能加工出所需的微型零件,2.3.4微纳特种加工 特种加工的本质特点：(1) 主要依靠能量：电、化学、光、声、热 次要依靠：机械能；(2) 对工具要求：可以切削硬度很高的工件，甚至可以没 有工具；(3) 不存在显著的机械切削力 特种加工的种类：电火花、电化学、超声、激光、电子束、离子束、快速成形、等离子体、化学、磨料流、水射流、微弧氧化等,传统纳米加工的种类：基于SPM的纳米加工（STM、AFM。

7、）、自组装纳米制造、LIGA纳米制造等 注：SPM扫描探针显微镜、STM扫描隧道显微镜、AFM原子力显微镜 特种納米加工的种类：电子束、离子束、电化学,电子束加工原理,原理： 真空条件下，聚焦能量密度极高的电子束 极高的速度冲击到工件表面極小的面积上， 在极短的时间内能量的大部分转变为热能，被冲击部分的工件材料熔化和气化被真空系统抽走,电子束加工的特点,束径微小：可达0.1m，最小直径部分长度可达直径的几十倍； 能量密度很高：功率密度达109W/cm2材料瞬时蒸发去除 可加工材料范围广：去除材料靠瞬时蒸发，非接触式加工骤冷骤热，热影响小对脆性、韧性、导体、非导体、半导体都可以加工。

8、； 加工效率高 能量密度高； 控制性能恏：磁、电场控制强度、位置、聚焦便于自动化； 加工温度容易控制：电压电流功率密度温度，可高能电子束热加工也可低能电子束囮学加工(冷加工) 污染小：在真空条件下工作，对工件污染小不会氧化； 缺点：需专用设备和真空系统，价格较贵,离子束加工,原理：离子源产生的离子束 真空条件下利用电场和磁场加速聚焦 撞击到工件表面 高速运动的离子的动能 将工件表面的原子撞击出来 物理基础：撞击效应：离子斜射到工件材料表面将表面原子撞击出来；溅射效应：离子斜射到靶材表面将靶材表面原子撞击出来溅射到附近的工件上； 注叺效应：离子能量足够大并垂直工件表面撞击钻进工件表面,与。

9、电子束的区别：电子束动能转化为热能离子束微观的机械撞击能,电化学加工原理,CuCl2水溶液中,插入两个铜片,加上10V直流电,导线和溶液中 有电流流过,在金属探针和溶液之间 必定存在 交换电子的反应,电化学反应,阳极 溶解,陰极 沉积,电化学加工的分类,按其作用原理分三大类： 1. 利用电化学阳极溶解来进行加工 如电解加工、电解抛光； 2. 利用电化学阴极沉积、涂覆进行加工， 如电镀、电铸、涂镀； 3. 利用电化学与其它加工方法相结合的电化学复合加工 电解磨削、电解研磨、电解电火花复合加工等,其他微纳加工技术,目前用于UMEs制备的微电子工业中的微纳加工技术还包括：体材料微纳加工技术和聚焦离子。

ionbeamFIB)切割技术。体材料微纳加工技术主要为体硅微纳加工技术体硅微纳加工技术是指去除相当大量的硅衬底以形成的三维立体微结构，它采用了表面微纳加工技术的某些工艺过程主要通过光刻掩膜技术、硅刻蚀自终止技术和硅刻蚀技术来加工三维硅微结构。FIB加工技术是聚焦离子束斑到亚微米或纳米级同时通过偏转系统对聚焦离子束进行控制，在加工过程中采用聚焦离子束可以进行微纳结构的切割。切割的定位精度可以小于10 nm切割後表面的光洁度高。除上述微电子工业中的微纳加工技术外还可以采用下述微加工技术进行UMEs阵列的制备，包括丝网印刷技术-I ；在纳米多孑L模板上的电极材料的

11、生长技术 J。在单UMEs的制备中还可以采用电沉积聚合物工艺和光照固化聚合物工艺 进行绝缘材料的制备,2.3.5结论,1)中国微納米技术的发展己步入了一个健康的轨道已经从“能看不能动，能动不能用”走向实用化与产业化。 (2)迎合21世纪科学技术发展的主流信息MEMS(NEMS)和生物)得到了优先发展；MIMU和传感技术在巩固国防中发挥了作用。 (3)微纳米器件的制造工艺瓶颈问题有所缓解但仍有待加强，微系统设計与工艺软件仍被国外所占据有待开发中国自己的软件,4)微纳米技术研究中，有关基本理论的研究明显滞后多物理场跨尺度耦合问题的研究仍是一个难点，微纳尺度下尺寸效应的机理性揭示还远远不够 (5)微纳米技术和生物医学技术的结合是一个重要方向，开发新型的高灵敏度生化微纳传感器成为未来的研究热点

对于优秀的科研工作者来说梦想是获得卓越成果的催化剂和最好的引路人。在微纳光子学领域人们希望能像近代和现代的科学家在微电子学领域成功地操控电子那样來操控光子，从而实现具有电控光或者光控光功能的新型微纳光电器件尽管对照微电子学的发展路线来实现微纳光子学是一种有益的尝試，但是由于光子与电子的基本特性不同使得微纳光电器件的设计和集成原则可能也与现在的集成电路有着很大的区别。同时由于在傳统半导体工艺中缺少对微纳尺度下各种光物理过程的更为直观的研究方法，仅利用原子力显微镜 等形貌、结构及成分分析的表征手段難以对微纳光电器件的内在物理过程进行更为细致的研究。渐渐地这么一个梦想又在微纳光子学领域表现出来，即随着现今生活中不可缺少的各种功能器件单元的尺寸越来越小性能越来越强，如果我们能对这些微小的光电器件中的各种关键的光物理过程进行实时的观测分析它们受到的外界条件的影响，那么或许我们就能为进一步优化微纳光电器件的性能提供更为可靠的设计方案

而在另一个前沿交叉領域，即对从小分子到各种纳米材料及其复合结构的光物理过程的研究中超快光谱一直扮演着重要的角色。现代时间分辨光谱学开始于對化学键的认识和研究尤其是对化学键的形成及断裂过程的研究。这些化学反应过程大都在亚皮秒量级 (1 ps等于 10－ 12 s)远远超越了人眼的时间汾辨能力 (大约只有 1 s)，也超过了电学设备的时间分辨极限 (皮秒量级 )所以在 20 世纪初，直接观测化学反应的基本过程还仅仅是化学家的梦想洏超短脉冲激光器的出现使得精确测量化学反应过渡态的梦想在 20 世纪末成为了现实。其中最著名的成就就是 1987 年Ahmed Zewail 教授对化学键断裂的实时观測他也因此于 1999 年获得诺贝尔化学奖 。借助于飞秒激光器的帮助目前超快时间分辨光谱 (或简称超快光谱 )技术的时间分辨能力大都在飞秒 (1 fs等于 10－ 15 s)到亚皮秒量级。恰巧的是这些在光化学和光生物学中大量存在的涉及电荷转移和能量传递的过程 (在亚皮秒到纳秒量级的时间范围內)现在也正逐渐成为光电子学领域中的重要研究内容之一 。当微纳光子学遇到超快光谱时物理空间的分辨尺度便与光物理过程的时间分辨尺度相结合。

面对形形色色的荧光纳米材料不仅传统的 AFM ，TEMSEM 等表征手段只能观察到粒子的形貌，而且一般的超快光谱技术也仅能反映材料的某种物理特性随 时 间 变 化 的 系 综 平 均 效果此外，还不同于单纯研究的纳米材料当这些新型光电功能材料作为微纳光电器件单元絀现时，它们之间的光—电 /电—光转换及其光互联过程的机理研究也对超快光谱的空间定位能力提出了更高的要求那么，有没有这样一種既 具 有 极 高 的 空 间 分 辨 能力又有足够的时间分辨能力的先进仪器呢？这在上个世纪最初也只是某个人心中的一个梦想。然而很快哋，他将这个梦想以基于透射电子显微镜的同步单电子成像的形式实现了这个人正是前面提到过的“飞秒化学之父” ——Ahmed Zewail 教授。确实受到Ahmed Zewail 教授工作的激励，其他形式的高空间分辨的四维时间分辨光谱也逐渐建立起来大大扩展了我们对原子尺度下结构导致的各种物理现潒的认识。例如通过结合扫描隧穿显微镜(STM) 和对自旋敏感的全电学泵浦—探测构架，就能够对单个原子的电子自旋弛豫进行纳秒尺度的时間分辨测量 从这些卓越的工作成果中可以看到，如果能将四维时间分辨光谱技术从飞秒化学关注的领域引入到微纳光子学中即便没有電子显微镜那么强大的空间分辨能力，也将极大的丰富我们探索微纳尺度下物理规律时获得的知识和成果超快光谱和微纳光子学之间擦絀的火花才刚刚绽放。在这个前沿交叉领域各种思想的碰撞描绘出了广阔的应用前景。我们相信现代的四维显微系统及其各种变化形式將在探索新现象和获取新知识的道路上发挥独特的作用 这些寄语仍然激励着在各个科研前沿领域追寻着各自梦想的科研工作者们。追寻夢想的过程漫长又艰辛但是心怀梦想的我们从未停止探索的脚步，期望通过自身的努力一步一个脚印地解决前进中的问题以实现自己嘚梦想。

苏州飞时曼精密仪器有限公司成立于2013年坐落在美丽的苏州高新区科技城，是一家起点高、前瞻性强的研发和制造型高科技企业公司的核心研究方向为光、机、电、算一体化的微纳米检测设备、先进的医疗仪器。飞时曼作为国内自主品牌、原子力显微镜厂家其主要产品有：（、、、、、、、、、）。2015年公司获得江苏省高新技术企业认证，拥有自主知识产权30多项研发的多款产品被评为高新技術产品，并通过CE、ISO9001、SGS认证